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鉛-錫真空蒸留装置 (VDF) は、真空下で錫、アンチモン、鉛の沸点の差を利用して不純物を除去することにより、鉛製錬の副産物である鉛合金から錫を分離しやすくします。 VDF は真空条件下で動作すると、さまざまな金属に対して明確な沸点を引き起こします。これにより、ユニット内の別々の場所で鉛と錫の蒸気が凝縮し、液体の鉛と錫が形成されます。 VDF は電力を利用して発熱し、ガスを排出せずに動作するため、環境に優しいオプションとなります。さらに、低濃度 (As ≤ 1%) でヒ素を収集する方法が組み込まれています。ただし、ヒ素含有量が指定のしきい値 (As≧2%) を超える場合は、炉を使用する前にヒ素を除去する必要があります。
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